Сухой пленочный фоторезист разработан для проявления и удаления в умеренно щелочных растворах. Экспонирование фоторезиста производится в ультрафиолетовом диапазоне спектра.

Обеспечивает превосходную работу и устойчивость к выщелачиванию во всех обычно используемых в производстве печатных плат ваннах гальванической металлизации.

Представляет собой слой несеребряного светочувствительного материала, нанесенного на полиэтилентерефталатную пленочную основу. Поверхность светочувствительного слоя защищена полиэтиленовой пленкой, которая удаляется перед началом работ.

Применение:
- Изготовление печатных плат
- Травление
- Легирование
- Пескоструйная гравировка
- Герметизация
- Пленка легко режется.
- Размеры: 305х5000 мм.

Тип корпуса: 305х5000 мм FOTOREZIST